原位紅外光譜儀作為精密分析儀器，其測量穩定性受環境溫濕度、光學元件清潔度、硬件狀態及操作規范等因素影響。以下從日常維護與故障排查兩方面提供系統性解決方案，助力用戶提升設備性能與數據可靠性。
一、日常維護：預防性保養延長設備壽命
環境控制
溫濕度管理：實驗室溫度應穩定在15～30℃，濕度≤65%，避免溫度波動超過±1℃/h或±2℃/天。建議配備空調與除濕機，雨季或夏季需每日開啟除濕機，防止光學元件受潮損壞。
防塵與防振：實驗室需保持清潔，安裝雙層玻璃窗減少灰塵進入；設備應放置在防振臺或獨立基座上，避免振動導致光路偏移或光源變形。
防腐蝕氣體：實驗室需與化學實驗室隔離，防止鹵化物氣體(如HCl、Br?)腐蝕ZnSe分束器或MCT檢測器窗口。
光學元件維護
定期清潔：使用洗耳球或無塵布清除分束器、反射鏡等光學元件表面灰塵；若沾污，需用乙醇清洗后，再用85%乙醚+15%乙醇混合液擦拭，棉球需卷成圓錐形并由中心向邊緣旋轉移動。
防潮保護：每周開機至少兩次(每次半天)，利用儀器自身熱量驅除潮氣；定期檢查干燥劑顏色，若變為粉紅色需立即更換，失效干燥劑需在150℃下烘干24小時后復用。
防機械損傷：避免觸摸光學鏡面，操作時需佩戴無塵手套；移動設備前需固定分束器、檢測器等易損部件。
硬件與軟件維護
電源管理：配備穩壓電源(功率根據附件配置選擇，如僅主機需1kW，加紅外顯微鏡則需2kW)和接地良好的地線，防止電壓波動或漏電損壞設備。
運動部件潤滑：每半年對導軌、絲桿等運動部件添加專用潤滑油(如儀表油)，減少磨損并保持運轉輕快。
軟件更新：定期升級操作軟件(如OPUS)，修復算法漏洞并優化測量精度；使用前需檢查信號讀數(常規透射信號應達24000左右，ATR模式為15000左右)。
二、故障排查：快速定位問題并解決
干涉圖能量低(信噪比差)
可能原因：
光路準直未調節好或非智能附件位置偏差；
紅外光源能量衰竭或檢測器損壞(如MCT檢測器液氮不足)；
分束器受潮或碰撞損壞；
光闌孔徑過小或信號增益倍數不足。
解決方案：
啟動光路自動準直程序，人工調整非智能附件位置；
更換紅外光源或聯系工程師檢修檢測器；
檢查分束器固定狀態，必要時更換并保持環境干燥；
重新設置光闌孔徑或信號增益倍數至適當值。
光學臺無法工作(無干涉圖)
可能原因：
分束器未固定或損壞；
計算機與光學臺連接故障；
控制電路板損壞或操作軟件異常；
He-Ne激光器不工作或能量衰減。
解決方案：
重新固定分束器，若損壞則聯系工程師更換；
檢查連接線并鎖緊接口，重啟光學臺和計算機；
聯系工程師檢修電路板或重裝操作軟件；
檢查激光器工作狀態，必要時更換。
干涉圖能量過高(信號溢出)
可能原因：光闌孔徑過大或信號增益倍數過高；動鏡移動速度過慢。
解決方案：重新設置光闌孔徑或信號增益倍數至適當值；調整動鏡移動速度參數。
其他常見問題
電源故障：安裝漏電保護裝置，定期檢查穩壓電源效率；
樣品倉污染：使用前清潔樣品倉，避免雜質干擾測量；
硬件短路：檢查操作板導線焊點是否接觸金屬部分，防止短路。
三、原位紅外光譜儀操作規范：減少人為誤差
樣品制備：
溴化鉀(KBr)壓片法需使用光學試劑級KBr，研細至200目以下并在120℃下烘干4小時；
壓片厚度需控制在0.5mm以下，避免干涉條紋干擾光譜；
鹽酸鹽樣品需用氯化鉀壓片替代溴化鉀，防止離子交換影響結果。
測量過程：
避免觸摸樣品倉內樣品，防止靜電干擾；
實時監測環境溫濕度，確保波動在允許范圍內；
測量完成后及時關閉儀器，減少光源損耗。
數據記錄：
建立設備技術檔案，記錄校準日期、環境參數及故障信息；
定期備份測量數據，防止丟失。
